ಲೇಸರ್ ಹರಳುಗಳು

ವಿಭಿನ್ನ ಸಾಂದ್ರತೆಗಳು, ವಿಭಿನ್ನ ಡೋಪಿಂಗ್ ಅಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ನಾವು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಲೇಸರ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತೇವೆ;ನಿಯೋಡೈಮಿಯಮ್ ಡೋಪ್ಡ್ ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಗಾರ್ನೆಟ್ (Nd:YAG) ಸೇರಿದಂತೆ ವಿನಂತಿಗಳ ಪ್ರಕಾರ ವಿಶೇಷಣಗಳು; ಎರ್ಬಿಯಂ ಡೋಪ್ಡ್ ಯೆಟ್ರಿಯಮ್ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಗಾರ್ನೆಟ್ (Er:YAG)；ಹೋಲ್ಮಿಯಮ್ ಡೋಪ್ಡ್ ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಗಾರ್ನೆಟ್ (Ho:YAG) ಗ್ಲಾಸ್) ಇತ್ಯಾದಿ, DIEN TECH ಒದಗಿಸಿದ ಆಯ್ಕೆಗಳು ಮತ್ತು ಪರಿಹಾರಗಳು ಬದಲಾಗುತ್ತವೆ.

Cr2+: ZnSe

Cr²+:ZnSe ಸ್ಯಾಚುರಬಲ್ ಅಬ್ಸಾರ್ಬರ್‌ಗಳು (SA) 1.5-2.1 μm ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಲ್ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಐ-ಸೇಫ್ ಫೈಬರ್ ಮತ್ತು ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಲೇಸರ್‌ಗಳ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಕ್ಯೂ-ಸ್ವಿಚ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ.
ಫೆ:ZnSe/Fe:ZnS

Fe²+:ZnSe ಫೆರಮ್ ಡೋಪ್ಡ್ ಸತು ಸೆಲೆನೈಡ್ ಸ್ಯಾಚುರಬಲ್ ಅಬ್ಸಾರ್ಬರ್‌ಗಳು (SA) 2.5-4.0 μm ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಲ್ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಲೇಸರ್‌ಗಳ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯ ಕ್ಯೂ-ಸ್ವಿಚ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ.
Yb:YAG ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ಸ್

Yb:YAG ಅತ್ಯಂತ ಭರವಸೆಯ ಲೇಸರ್-ಸಕ್ರಿಯ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ Nd-ಡೋಪ್ಡ್ ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಡಯೋಡ್-ಪಂಪಿಂಗ್‌ಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ Nd:YAG ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್‌ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, Yb:YAG ಸ್ಫಟಿಕವು ಡಯೋಡ್ ಲೇಸರ್‌ಗಳಿಗೆ ಥರ್ಮಲ್ ಮ್ಯಾನೇಜ್‌ಮೆಂಟ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಹೆಚ್ಚು ದೊಡ್ಡ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಬ್ಯಾಂಡ್‌ವಿಡ್ತ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ದೀರ್ಘವಾದ ಮೇಲಿನ-ಲೇಸರ್ ಮಟ್ಟದ ಜೀವಿತಾವಧಿ, ಪ್ರತಿ ಯೂನಿಟ್ ಪಂಪ್ ಪವರ್‌ಗೆ ಮೂರರಿಂದ ನಾಲ್ಕು ಪಟ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಥರ್ಮಲ್ ಲೋಡಿಂಗ್.Yb:YAG ಸ್ಫಟಿಕವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಡಯೋಡ್-ಪಂಪ್ಡ್ ಲೇಸರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಸಂಭಾವ್ಯ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ Nd:YAG ಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ಬದಲಿಸುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ.
Tm:YAP ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ಸ್

Tm ಡೋಪ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳು ಹಲವಾರು ಆಕರ್ಷಕ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಂಡಿವೆ, ಅವುಗಳು ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಲೇಸರ್ ಮೂಲಗಳಿಗೆ ಆಯ್ಕೆಯ ವಸ್ತುವಾಗಿ ನಾಮನಿರ್ದೇಶನಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯ ತರಂಗಾಂತರವನ್ನು ಸುಮಾರು 2um ಟ್ಯೂನ್ ಮಾಡಬಹುದಾಗಿದೆ.Tm:YAG ಲೇಸರ್ ಅನ್ನು 1.91 ರಿಂದ 2.15um ವರೆಗೆ ಟ್ಯೂನ್ ಮಾಡಬಹುದು ಎಂದು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾಯಿತು.ಅಂತೆಯೇ, Tm:YAP ಲೇಸರ್ 1.85 ರಿಂದ 2.03 um ವರೆಗೆ ಟ್ಯೂನಿಂಗ್ ಮಾಡಬಲ್ಲದು. Tm: ಡೋಪ್ಡ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ಅರೆ-ಮೂರು ಹಂತದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೆ ಸರಿಯಾದ ಪಂಪಿಂಗ್ ಜ್ಯಾಮಿತಿ ಮತ್ತು ಸಕ್ರಿಯ ಮಾಧ್ಯಮದಿಂದ ಉತ್ತಮ ಶಾಖದ ಹೊರತೆಗೆಯುವಿಕೆ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ.
ಹೋ: YAG ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ಸ್

ಹೋ:YAG ಹೋ³⁺ಇನ್ಸುಲೇಟಿಂಗ್ ಲೇಸರ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳಾಗಿ ಡೋಪ್ ಮಾಡಲಾದ ಅಯಾನುಗಳು 14 ಇಂಟರ್-ಮ್ಯಾನಿಫೋಲ್ಡ್ ಲೇಸರ್ ಚಾನಲ್‌ಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿವೆ, CW ನಿಂದ ಮೋಡ್-ಲಾಕ್ ವರೆಗೆ ತಾತ್ಕಾಲಿಕ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ.Ho:YAG ಅನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 2.1-μm ಲೇಸರ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಸಮರ್ಥ ಸಾಧನವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ⁵I₇-⁵I₈ಪರಿವರ್ತನೆ, ಲೇಸರ್ ರಿಮೋಟ್ ಸೆನ್ಸಿಂಗ್, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಶಸ್ತ್ರಚಿಕಿತ್ಸೆ ಮತ್ತು 3-5ಮೈಕ್ರಾನ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಮಿಡ್-ಐಆರ್ ಒಪಿಒಗಳನ್ನು ಪಂಪ್ ಮಾಡುವಂತಹ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ.ಡೈರೆಕ್ಟ್ ಡಯೋಡ್ ಪಂಪ್ಡ್ ಸಿಸ್ಟಮ್ಸ್,ಮತ್ತು Tm: ಫೈಬರ್ ಲೇಸರ್ ಪಂಪ್ಡ್ ಸಿಸ್ಟಮ್ ಹೈ ಸ್ಲೋಪ್ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿದೆ, ಕೆಲವು ಸೈದ್ಧಾಂತಿಕ ಮಿತಿಯನ್ನು ಸಮೀಪಿಸುತ್ತಿದೆ.
Er:YSGG/Er,Cr:YSGG ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ಸ್

ಎರ್ಬಿಯಮ್ ಡೋಪ್ಡ್ ಯಟ್ರಿಯಮ್ ಸ್ಕ್ಯಾಂಡಿಯಮ್ ಗ್ಯಾಲಿಯಂ ಗಾರ್ನೆಟ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳಿಂದ ಸಕ್ರಿಯ ಅಂಶಗಳು (Er:Y3Sc2Ga3012 ಅಥವಾ Er:YSGG), ಏಕ ಹರಳುಗಳು, 3 µm ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ವಿಕಿರಣಗೊಳ್ಳುವ ಡಯೋಡ್ ಪಂಪ್ ಮಾಡಿದ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಲೇಸರ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ.Er:YSGG ಸ್ಫಟಿಕಗಳು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ Er:YAG, Er:GGG ಮತ್ತು Er:YLF ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ಜೊತೆಗೆ ತಮ್ಮ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ.